大日本印刷 5ナノメートル対応 EUVリソグラフィ向けフォトマスクプロセスを開発
2020.7.10
大日本印刷は、マルチ電子ビームを使うマスク描画装置を利用し、現在の半導体製造の最先端プロセスであるEUV(Extreme Ultra-Violet:極端紫外線)リソグラフィに対応する、5ナノメートルプロセス相当のフォトマスク製造プロセスを開発した。
〇現在の半導体製造では、フォトリソグラフィ技術によって十数nmの回路パターンをシリコンウェハに形成している。しかし、フォトリソグラフィ用の光源に、波長が193nmのArF(フッ化アルゴン)等のエキシマレーザーを使用しているため、解像度に限界があった。EUVリソグラフィでは、波長が13.5nmのEUVを光源とすることで、数nmの回路パターンの形成が可能になる。同技術は、一部の半導体メーカーで、5~7nmプロセスのマイクロプロセッサーや最先端メモリデバイス等での実用化が始まっており、今後は最先端プロセスを手掛ける多くの半導体メーカーで利用が拡大すると見込まれている。
2021.1.25
印刷加工連 ホームページを刷新、Webショップ開設へ NEW2021.1.25
フジプラス DXにより世界にたった一冊のパーソナライズ絵本を制作 NEW2021.1.21
凸版印刷 「鮮度の可視化と個別追跡管理」による食品ロス削減の実証実験行う2021.1.20
ハンコヤドットコム 名入れタンブラーやボトルが作成できる専門サイト 「名入れタンブラー館」2021.1.19
富士ゼロックス 「グリーン電力証書」を活用、環境に配慮した印刷物の制作を支援2021.1.18
プリ・テック 自分で簡単に貼って剥がせるシールタイプの壁紙「Decol」2021.1.18
キンコーズ DTPセンターを開設、プリントマネジメントを最適化2021.1.15
凸版印刷 「TOPPAN Business Action for SDGs」を策定2021.1.15
【NEWPRINET】抗菌・抗ウイルス印刷特集2021.1.15
【抗菌・抗ウイルス印刷特集】丸信 抗ウイルス性も備えたSIAA製品 抗菌フィルム・リケガード
2021.1.26
コムネット 自動給紙機付きカッティングマシン『RX II』発売 NEW2021.1.26
出版科学研究所 出版市場2年連続のプラス、コロナ禍で読書需要拡大 NEW2021.1.25
印刷加工連 ホームページを刷新、Webショップ開設へ NEW2021.1.25
フジプラス DXにより世界にたった一冊のパーソナライズ絵本を制作 NEW2021.1.25
丸信 Webイベント「丸信オンライン・オープンハウス2021」、2月18日~3月4日 NEW2021.1.22
JAGAT page2021オンラインで、新型コロナウイルス感染対策製品・サービスゾーン設置2021.1.22
ミヤコシ シール・ラベル市場向け間欠オフセット印刷機、コンパクト、ミドルレンジの2モデル2021.1.22
日本製紙連合会 2020年12月の「紙・板紙需給速報」を発表2021.1.21
凸版印刷 「鮮度の可視化と個別追跡管理」による食品ロス削減の実証実験行う2021.1.21
岩月末広堂 かつてないグラフィカルな仕上がりの高精細オリジナル扇子